ES2372024T3

Protective layers for sputter coated article

Abstract

A coated article comprising: (i) a substrate; (ii) a first dielectric layer deposited by sputtering on the substrate (i), the layer (ii) comprising: (iia) a first zinc stannate film deposited on the substrate (i) that has zinc in the range of percent by weight equal to and greater than 10 and equal to and less than 90, and tin in the range of percent in weight equal to and less than 90 and equal to and greater than 10, and (iib) an electrical enhancement film deposited on the zinc stannate film (iia), the electrical enhancement film being selected from the group of films consisting of a sputtering of zinc oxide, tin oxide deposited from an object having from 0.5 to 9.5 weight percent tin and from 99.5 to 90.5 weight percent zinc and a second zinc stannate film, wherein the composition of the first zinc stannate film (ia) is at least about 5 percent by weight different from the composition of the second zinc stannate film, and (iii) at least one infrared reflective layer on the first dielectric layer (ii); (iv) optionally, a first layer of metal primer on the first infrared reflective layer (iii); (v) optionally, a second dielectric layer on a first layer of metal primer (iv); and (vi) at least one protective layer consisting of two films, in which one film is selected from metals or silicon and the other film is selected from metal-oxy- or silica-oxy-materials, in which one of the films are first deposited with the other film deposited on the first deposited film, and in which the metal is the same or different and is selected from titanium, zirconium, niobium, tantalum, chromium, nickel and alloys thereof, and wherein the oxy-materials are selected from titanium oxides, titanium oxynitride, zirconium oxides, zirconium oxinitride, niobium oxides, niobium oxynitride, tantalum oxides, tantalum oxynitride, chromic oxides, chromic oxinitride nickel, nickel oxynitride, silicon oxide, silicon dioxide, aluminum nitride and silicon

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28 claims: 8 independent, 20 dependent

  1. 1
    ES 2 372 024 T3 REIVINDICACIONES 1. Un artículo recubierto que comprende:(i) un substrato;(ii) una primera capa dieléctrica depositada por pulverización catódica sobre el substrato (i), comprendiendo la capa (ii): (iia) una primera película de estannato de cinc depositada sobre el substrato (i) que tiene cinc en el intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y estaño en el intervalo de por ciento en peso de igual a y menor a 90 e igual a y superior a 10, y (iib) una película de potenciación eléctrica depositada sobre la película de estannato de cinc (iia), estando la película de potenciación eléctrica seleccionada entre el grupo de películas que consisten en una pulverización catódica de película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una segunda película de estannato de cinc, en la que la composición de la primera película de estannato de cinc (ia) es al menos aproximadamente 5 por ciento en peso diferente de la composición de la segunda película de estannato de cinc, y (iii) al menos una capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii);(iv) opcionalmente, una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii);(v) opcionalmente, una segunda capa dieléctrica sobre una primera capa de imprimador de metal (iv);y (vi) al menos una capa protectora que consiste en dos películas, en la que una película está seleccionada entre metales o silicio y la otra película está seleccionada entre metal-oxi- o sílice-oxi-materiales, en la que una de las películas se deposita primeramente con la otra película depositada sobre la primera película depositada, y en la que el metal es el mismo o diferente y está seleccionado entre titanio, circonio, niobio, tántalo, cromo, níquel y aleaciones de los mismos, y en la que los oxi-materiales están seleccionados entre óxidos de titanio, oxinitruro de titanio, óxidos de circonio, oxinitruro de circonio, óxidos de niobio, oxinitruro de niobio, óxidos de tántalo, oxinitruro de tántalo, óxidos crómicos, oxinitruro crómico, óxido de níquel, oxinitruro de níquel, óxido de silicio, dióxido de silicio, nitruro de aluminio y silicio.
  2. 2
    El artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que la capa dieléctrica (ii) es una primera capa dieléctrica y la capa reflectante infrarroja (iii) es una primera capa reflectante infrarroja y el apilado incluye además:una segunda capa dieléctrica (v) sobre la capa de imprimador (iv) y (vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v);(viii) opcionalmente, una capa de imprimador sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii);y la capa protectora (vi) es una sobrecapa sobre la segunda capa dieléctrica (v).
  3. 3
    El artículo recubierto de la reivindicación 2, en el que la capa protectora (vi) tiene al menos dos películas en cualquier orden de metal o silicio y metal-oxi o silicio-oxi-material localizadas entre la segunda capa dieléctrica (v) sobre la segunda capa dieléctrica (vii) y una tercera capa dieléctrica (ix).
  4. 4
    El artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende:(i) un substrato;(ii) una primera capa dieléctrica pulverizada catódicamente depositada sobre el substrato (i), comprendiendo la capa (ii): (iia) una primera película de estannato de cinc depositada sobre el substrato (i) que tiene cinc en el intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y estaño en el intervalo de por ciento en peso de igual a y menor a 90 e igual a y superior a 10, y (iib) una película de potenciación eléctrica depositada sobre la película de estannato de cinc (iia), estando la película de potenciación eléctrica seleccionada entre el grupo de películas que consisten en una pulverización catódica de película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una segunda película de estannato de cinc, en la que la composición de la primera película de estannato de cinc (ia) es al menos aproximadamente 5 por ciento en peso diferente de la composición de la segunda película de estannato de cinc, y ES 2 372 024 T3 (iii) una capa reflectante infrarroja depositada sobre la capa dieléctrica (ii);(iv) una capa de imprimador de metal sobre la capa reflectante infrarroja (iii);(v) una segunda capa dieléctrica sobre la primera capa de imprimador (iv);y (vi) una capa protectora de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1, depositada sobre la segunda capa dieléctrica (v).
  5. 5
    Un artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende:(i) un substrato;(ii) una primera capa dieléctrica pulverizada catódicamente depositada sobre el substrato (i);(iii) una primera capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii);(iv) una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii);(v) una segunda capa dieléctrica sobre la primera capa de imprimador de metal (iv);conteniendo la segunda capa dieléctrica (v): (va) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc, óxido de estaño pulverizada catódicamente depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una primera película de estannato de cinc, y (vb) una segunda película dieléctrica, teniendo la segunda película dieléctrica una composición diferente de la primera película dieléctrica de la segunda capa dieléctrica;(vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v);(viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii);(ix) una tercera capa dieléctrica sobre la segunda capa de imprimador de metal (ix);y (vi) una capa protectora de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1, depositada sobre la tercera capa dieléctrica (ix).
  6. 6
    Un artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende:(i) un substrato;(ii) una primera capa dieléctrica pulverizada catódicamente depositada sobre el substrato (i);(iii) una primera capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii);(iv) una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii);(v) una segunda capa dieléctrica sobre la primera capa de imprimador de metal (iv);(vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v);(viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja;(ix) una tercera capa dieléctrica que tiene: (ixa) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc;película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc;una primera película de estannato de cinc, y (ixb) una segunda película dieléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (ixa), teniendo la segunda película dieléctrica una composición diferente de la primera película dieléctrica (ixa);y (vi) una capa protectora depositada sobre la tercera capa dieléctrica (ix), en la que la capa protectora es de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1.
  7. 7
    Un artículo recubierto de la reivindicación 1, en el que el apilado comprende:ES 2 372 024 T3 (i) un substrato;(ii) una primera capa dieléctrica sobre el substrato (i);(iii) una primera capa reflectante infrarroja sobre la primera capa dieléctrica (ii);(iv) una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii);(v) una segunda capa dieléctrica que tiene: (va) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc y una primera película de estannato de cinc, y (vb) una segunda película dieléctrica depositada sobre la primera película dieléctrica (va) que tiene una composición diferente de la primera película dieléctrica (vb);(vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v);(viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii);(ix) una tercera capa dieléctrica sobre la segunda capa de imprimador de metal (viii), teniendo la tercera capa dieléctrica: (ixa) una primera película dieléctrica seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc;y una primera película de estannato de cinc, y (ixb) una segunda película dieléctrica, que tiene una composición diferente de la primera película dieléctrica (ixa);y (vi) una capa protectora depositada sobre la tercera capa dieléctrica (ix), en la que la capa protectora es de al menos dos películas tal como se definen en la reivindicación 1.
  8. 8
    El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que el metal de la capa reflectante infrarroja (iii) es plata y la plata está depositada sobre la película de óxido de cinc, óxido de estaño o la segunda película de estannato de cinc (iib).
  9. 9
    El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que la capa dieléctrica (ii) es una primera capa dieléctrica y la capa reflectante infrarroja (iii) es una primera capa reflectante infrarroja y la capa de imprimador de metal (iv) es una primera capa de imprimador de metal sobre la primera capa reflectante infrarroja (iii); y que incluye además:(vii) una segunda capa reflectante infrarroja sobre la segunda capa dieléctrica (v);(viii) una segunda capa de imprimador de metal sobre la segunda capa reflectante infrarroja (vii);(ix) una tercera capa dieléctrica sobre la segunda capa de imprimador de metal (ix), y la capa protectora (vi) está sobre la tercera capa dieléctrica (x).
  10. 10
    El artículo recubierto de las reivindicaciones 4 y 6, en el que al menos una de la segunda y tercera capas dieléctricas (v,ix) incluyen una película de estannato de cinc que tiene 10-90 por ciento en peso de cinc y 90-10 por ciento en peso de estaño.
  11. 11
    El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que la segunda capa dieléctrica (v) comprende:(va) una primera película dieléctrica, y (vb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90.
  12. 12
    El artículo recubierto de la reivindicación 11, en el que la primera película dieléctrica (va) de la segunda capa dieléctrica (v) comprende una película de óxido de cinc;una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc o una película de estannato de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la película de estannato de cinc (vb) de la segunda capa dieléctrica (v). ES 2 372 024 T3
  13. 13
    El artículo recubierto de la reivindicación 12, en el que la película de estannato de cinc (va) de la segunda capa dieléctrica (v) tiene cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40, y la tercera capa dieléctrica (ix) es una película de estannato de cinc.
  14. 14
    El artículo recubierto de las reivindicaciones 5 a 9, en el que la tercera capa dieléctrica (ix) comprende:(ixa) una primera película dieléctrica, y (ixb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro de un intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y menor de 90 e igual a y superior a 10.
  15. 15
    El artículo recubierto de la reivindicación 14, en el que la primera película dieléctrica (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) está seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc;unas películas de óxido de cinc, óxido de estaño depositadas a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc o una película de estannato de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la primera película de estannato de cinc (ixb) de la tercera capa dieléctrica (ix).
  16. 16
    El artículo recubierto de la reivindicación 15, en el que la película de estannato de cinc (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) tiene cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40.
  17. 17
    El artículo recubierto de las reivindicaciones 5 y 7, en el que la segunda capa dieléctrica (v) comprende:(va) una primera película dieléctrica, y (vb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro de un intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90, y la tercera capa dieléctrica (ix) comprende: (ixa) una primera película dieléctrica, y (ixb) una película de estannato de cinc que tiene cinc dentro de un intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 10 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y menor de 90 e igual a y superior a 10.
  18. 18
    El artículo recubierto de la reivindicación 17, en el que la primera película dieléctrica (va) de la segunda capa dieléctrica (v) y la primera película dieléctrica (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) tienen una película cada una seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc;película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc o una segunda película de estannato de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la película de estannato de cinc (vb,ixb) en la respectiva segunda o tercera capa dieléctrica.
  19. 19
    El artículo recubierto de la reivindicación 10, en el que la película de estannato de cinc (iia,va) de la primera y segunda capa dieléctrica (ii,v) incluye cada una cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40.
  20. 20
    El artículo recubierto de las reivindicaciones 5, 7 ó 11, en el que la segunda capa dieléctrica (v) incluye además:(vc) una tercera capa dieléctrica sobre las películas de estannato de cinc (vb) de la segunda capa dieléctrica (v), en el que la tercera película dieléctrica (vc) es una película seleccionada entre el grupo que consiste en una película de óxido de cinc;una película de óxido de cinc, óxido de estaño depositada a partir de un objeto que tiene desde 0,5 hasta 9,5 por ciento en peso de estaño y desde 99,5 hasta 90,5 por ciento en peso de cinc que tiene una composición diferente de la composición de la película de estannato de cinc (vb) más próxima a la película de estannato de cinc (vc).
  21. 21
    El artículo recubierto de la reivindicación 12, en el que la primera y tercera películas dieléctricas (va,vc) de la segunda capa dieléctrica (v) y la primera capa dieléctrica (ixa) de la tercera capa dieléctrica (ix) incluyen cada una cinc dentro del intervalo de por ciento en peso igual a y superior a 60 e igual a y menor de 90 y estaño dentro del intervalo de por ciento en peso de igual a y superior a 10 e igual a y menor de 40.
  22. 22
    El artículo recubierto de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 21, en el que la capa protectora (vi) tiene un espesor para las películas de 0,005 hasta 0,0060 pm (5 a 60 Á) para la película de metal o de silicio y de 0,0020 hasta 0,050 pm (20 a 50 Á), para las películas de oxi-material. ES 2 372 024 T3
  23. 23
    El artículo recubierto de la reivindicación 22, en el que la capa protectora (vi) tiene un espesor para las películas de 0,0010 hasta 0,0030 pm (10 a 30 Á) para la película de metal o de silicio y de 0,0030 hasta 0,0040 pm (30 a 40 Á), para la película de oxi-material.
  24. 24
    El artículo recubierto de la reivindicación 4, en el que o bien el silicio, o bien el metal o el metal oxi-material es la 5 primera película de la capa (vi).
  25. 25
    El artículo recubierto de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 24, en el que el substrato (i) es vidrio.
  26. 26
    Uso del artículo recubierto de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 25, como un producto transparente para automóvil.
  27. 27
    Uso de la reivindicación 26, en el que el producto transparente para automóvil es un parabrisas que tiene un par 10 de láminas de vidrio laminadas conjuntamente y una de las láminas es el artículo recubierto de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 25.
  28. 28
    El uso de la reivindicación 27, en el que el artículo recubierto se calienta hasta su temperatura de plegado para proporcionar un objeto de parabrisas recubierto y, después del calentamiento, el recubrimiento tiene opalescencia reducida;y el objeto recubierto se lamina a otra pieza de vidrio para proporcionar el parabrisas para automóvil.
Independent claims28