EP1558950B1

An infra-red reflecting layered structure

Abstract

The invention relates to an infra-red reflecting layered structure comprising a transparent substrate layer; a first metal oxide layer; a first silver containing layer, a second metal oxide layer; a second silver containing layer and a third metal oxide layer. The first, second and third metal oxide layer have a refractive index of at least 2.40 at a wavelength of 500 nm. The layered structure according to the present invention laminated on glass has a visual light transmittance (VLT) higher than 70% and a solar heat gain coefficient (SHGC) lower than 0.44. The invention further relates to the use of a layered structure as a transparent heat-mirror.

EP1558950B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 8

Term

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Expired 23 October 2023, 2.9 years ago.

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18 claims: 14 independent, 4 dependent

  1. 1
    An infra-red reflecting layered structure [20,30], said layered structure comprising - a transparent substrate layer (21,22)- a first metal oxide layer, said first metal oxide layer (22,32) having a thickness between 25 and 70 nm;- a first silver containing layer (23,33) said first silver containing layer (23,33) having a thickness between 10 and 25 nm;- a second metal oxide layer (24,34) said second metal oxide layer (24,34) having a thickness between 25 and 70 nm:- a second silver containing layer (25,35) , said second silver containing layer (25,35) having a thickness between 10 and 25 nm;- a third metal oxide layer (26,36), said third metal containing layer (26,36) having a thickness between 25 and 70 nm;the number of silver containing layers is limited to two ;said layered structure further comprising at least one intermediate layer (27,27',37,37',39,39') comprising gold said intermediate layer being located between a silver containing layer and a metal oxide layer and/or between a metal oxide layer and a silver containing layer;said intermediate layer is adapted to increase the stability and durability of said silver containing layer and to avoid the intermixing at the interface of said silver containing layer and said metal oxide layer ;said first, second and third metal oxide layer having a refractive index of at least 2.40 at a wavelength of 500 nm and said layered structure laminated on glass having a visual light transmittance (VLT) higher than 70 % and a solar heat gain coefficient (SHGC) lower than 0.44. Infrarotreflektierende geschichtete Struktur (20, 30), wobei die geschichtete Struktur Folgendes umfasst: - eine transparente Substratschicht (21, 22);- eine erste Metalloxidschicht, wobei die erste Metalloxidschicht (22, 32) eine Dicke zwischen 25 und 70 nm aufweist;- eine erste silberhaltige Schicht (23, 33), wobei die erste silberhaltige Schicht (23, 33) eine Dicke zwischen 10 und 25 nm aufweist;- eine zweite Metalloxidschicht (24, 34), wobei die zweite Metalloxidschicht (24, 34) eine Dicke zwischen 25 und 70 nm aufweist;- eine zweite silberhaltige Schicht (25, 35), wobei die zweite silberhaltige Schicht (25, 35) eine Dicke zwischen 10 und 25 nm aufweist;- eine dritte Metalloxidschicht (26, 36), wobei die dritte Metalloxidschicht (26, 36) eine Dicke zwischen 25 und 70 nm aufweist;wobei die Anzahl der silberhaltigen Schichten auf zwei begrenzt ist;wobei die geschichtete Struktur ferner mindestens eine Zwischenschicht (27, 27', 37, 37', 39, 39') umfasst, die Gold umfasst und zwischen einer silberhaltigen Schicht und einer Metalloxidschicht und/oder zwischen einer Metalloxidschicht und einer silberhaltigen Schicht angeordnet ist;wobei die Zwischenschicht ausgelegt ist, um die Stabilität und Alterungsbeständigkeit der silberhaltigen Schicht zu erhöhen und das Vermischen an einer Schnittstelle der silberhaltigen Schicht und der Metalloxidschicht, zu vermeiden;wobei die erste, zweite und dritte Metalloxidschicht bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Brechungsindex von mindestens 2,40 aufweist und die geschichtete Struktur, die auf Glas geschichtet wird, einen visuellen Lichtdurchlässigkeitsgrad (VLT), der höher als 70 % ist, und einen solaren Wärmebelastungskoeffizienten (SHGC) von weniger als 0,44 aufweist. Structure stratifiée réfléchissant les infrarouges [20, 30], ladite structure stratifiée comprenant : - une couche de substrat transparente (21, 22);- une première couche d'oxyde de métal, ladite première couche d'oxyde de métal (22, 32) ayant une épaisseur entre 25 et 70 nm;- une première couche contenant de l'argent (23, 33), ladite première couche contenant de l'argent (23, 33) ayant une épaisseur entre 10 et 25 nm;- une deuxième couche d'oxyde de métal (24, 34), ladite deuxième couche d'oxyde de métal (24, 34) ayant une épaisseur entre 25 et 70 nm;- une deuxième couche contenant de l'argent (25, 35), ladite deuxième couche contenant de l'argent (25, 35) ayant une épaisseur entre 10 et 25 nm;- une troisième couche d'oxyde de métal (26, 36), ladite troisième couche d'oxyde de métal (26, 36) ayant une épaisseur entre 25 et 70 nm;le nombre de couches contenant de l'argent étant limité à deux;ladite structure stratifiée contenant en outre au moins une couche intermédiaire (27, 27', 37, 37', 39, 39') comprenant de l'or, ladite couche intermédiaire étant située entre une couche contenant de l'argent et une couche d'oxyde de métal et/ou entre une couche d'oxyde de métal et une couche contenant de l'argent;ladite couche intermédiaire étant à même d'augmenter la stabilité et la durabilité de ladite couche contenant de l'argent et d'empêcher le mélange mutuel à l'interface de ladite couche contenant de l'argent et de ladite couche d'oxyde de métal;lesdites première, deuxième et troisième couches d'oxyde de métal ayant un indice de réfraction d'au moins 2,40 à une longueur d'onde de 500 nm et ladite structure stratifiée appliquée sur du verre ayant un pouvoir de transmission de lumière visuelle (VLT) supérieur à 70% et un coefficient de gain de chaleur solaire (SHGC) inférieur à 0,44.
  2. 2
    A layered structure according to claim 1, whereby said layered structure has a light to solar gain ratio (LSG ratio) higher than 1.60. Geschichtete Struktur nach Anspruch 1, wobei die geschichtete Struktur ein Licht-zu-Sonne-Belastungsverhältnis (LSG-Verhältnis) aufweist, das höher als 1,60 ist. Structure stratifiée selon la revendication 1, dans laquelle ladite structure stratifiée a un rapport de la lumière au gain solaire (rapport LSG) supérieur à 1,60.
  3. 3
    A layered structure according to claim 1 or claim 2, whereby said first, said second and said third metal oxide layer (22,24,26,32,34,36) comprise TiO2. Geschichtete Struktur nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei die erste, zweite und dritte Metalloxidschicht (22, 24, 26, 32, 34, 36) TiO2 umfassen. Structure stratifiée selon la revendication 1 ou la revendication 2, dans laquelle lesdites première, deuxième et troisième couches d'oxyde de métal (22, 24, 26, 32, 34, 36) comprennent du TiO2.
  4. 4
    A layered structure according to claim 3, whereby said TiO2 is mainly composed of rutile phase. Geschichtete Struktur nach Anspruch 3, wobei das TiO2 hauptsächlich aus der Rutilphase gebildet wird. Structure stratifiée selon la revendication 3, dans laquelle ledit TiO2 est principalement composé de phase rutile.
  5. 5
    Benutzung einer geschichteten Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 4 als ein transparenter Wärmereflektor. Use of a layered structure according to any one of claims 1 to 4 as a transparent heat-mirror. Utilisation d'une structure stratifiée selon l'une quelconque des revendications 1 to 4 comme miroir thermique transparent.
  6. 6
    A method of reducing the number of silver containing layers in an infra-red reflecting layered structure, down to two silver containing layers said method comprising the following steps :- providing a transparent substrate layer (21,22)- depositing upon said substrate layer (21,22) a first metal oxide layer (22,32) having a refractive index of at least 2.40 at a wavelength of 500 nm, said first metal oxide layer (22,32) having a thickness between 25 and 70 nm;- depositing upon said first metal oxide layer (22,32) a first silver containing layer (23,33) said first silver containing layer (23,33) having a thickness between 10 and 25 nm;- depositing upon said first silver containing layer (23,33) a second metal oxide layer (24,34) having a refractive index of at least 2.40 at a wavelength of 500 nm, said second metal oxide layer (24,34) having a thickness between 25 and 70 nm;(24,34)- depositing upon said second metal oxide layer (24,34)a second silver containing layer (25,35), said second silver containing layer (26,35) having a thickness between 10 and 25 nm;- depositing upon said second silver containing layer (25,35) a third metal oxide layer (26,36) having a refractive index of at least 2.40 at a wavelength of 500 nm, said third metal containing layer (26,36) having a thickness between 25 and 70 nm;said method further comprising the deposition of at least one intermediate layer (27,27',37,37',39,39') comprising gold, said intermediate layer being located between a silver containing layer and a metal oxide layer and/or between a metal oxide layer and a silver containing layer in order to increase the stability and durability of the silver containing layer and in order to avoid the intermixing at the interface of the silver containing layer and the metal oxide layer. Procédé de réduction du nombre de couches contenant de l'argent dans une structure stratifiée réfléchissant les infrarouges jusqu'à deux couches contenant de l'argent, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : - on met en oeuvre une couche de substrat transparente (21, 22);- on dépose sur ladite couche de substrat (21, 22) une première couche d'oxyde de métal (22, 32) ayant un indice de réfraction d'au moins 2,40 à une longueur d'onde de 500 nm, ladite première couche d'oxyde de métal (22, 32) ayant une épaisseur entre 25 et 70 nm;- on dépose sur ladite première couche d'oxyde de métal (22, 32) une première couche contenant de l'argent (23, 33), ladite première couche contenant de l'argent (23, 33) ayant une épaisseur entre 10 et 25 nm;- on dépose sur ladite première couche contenant de l'argent (23, 33) une deuxième couche d'oxyde de métal (24, 34) ayant un indice de réfraction d'au moins 2,40 à une longueur d'onde de 500 nm, ladite deuxième couche d'oxyde de métal (24, 34) ayant une épaisseur entre 25 et 70 nm;- on dépose sur ladite deuxième couche d'oxyde de métal (24, 34) une deuxième couche contenant de l'argent (25, 35), ladite deuxième couche contenant de l'argent (25, 35) ayant une épaisseur entre 10 et 25 nm;- on dépose sur ladite deuxième couche contenant de l'argent (25, 35) une troisième couche d'oxyde de métal (26, 36) ayant un indice de réfraction d'au moins 2,40 à une longueur d'onde de 500 nm, ladite troisième couche d'oxyde de métal (26, 36) ayant une épaisseur entre 25 et 70 nm;ledit procédé comprenant en outre le dépôt d'au moins une couche intermédiaire (27, 27', 37, 37', 39, 39') comprenant de l'or, ladite couche intermédiaire étant située entre une couche contenant de l'argent et une couche d'oxyde de métal et/ou entre une couche d'oxyde de métal et une couche contenant de l'argent pour augmenter la stabilité et la durabilité de la couche contenant de l'argent et éviter le mélange mutuel à l'interface de la couche contenant de l'argent et de la couche d'oxyde de métal. Verfahren zum Reduzieren der Anzahl silberhaltiger Schichten in einer infrarotreflektierenden geschichteten Struktur auf zwei silberhaltige Schichten, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: - Bereitstellen einer transparenten Substratschicht (21, 22);- Abscheiden einer ersten Metalloxidschicht (22, 32), die bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Brechungsindex von mindestens 2,40 aufweist, auf die Substratschicht (21, 22), wobei die erste Metalloxidschicht (22, 32) eine Dicke zwischen 25 und 70 nm aufweist;- Abscheiden einer ersten silberhaltigen Schicht (23, 33) auf die erste Metalloxidschicht (22, 32), wobei die erste silberhaltige Schicht (23, 33) eine Dicke zwischen 10 und 25 nm aufweist;- Abscheiden einer zweiten Metalloxidschicht (24, 34), die bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Brechungsindex von mindestens 2,40 aufweist, auf die erste silberhaltige Schicht (23, 33), wobei die zweite Metalloxidschicht (24, 34) eine Dicke zwischen 25 und 70 nm aufweist;- Abscheiden einer zweiten silberhaltigen Schicht (25, 35) auf die zweite Metalloxidschicht (24, 34), wobei die zweite silberhaltige Schicht (25, 35) eine Dicke zwischen 10 und 25 nm aufweist;- Abscheiden einer dritten Metalloxidschicht (26, 36), die bei einer Wellenlänge von 500 nm einen Brechungsindex von mindestens 2,40 aufweist, auf die zweite silberhaltige Schicht (25, 35), wobei die dritte Metalloxidschicht (26, 36) eine Dicke zwischen 25 und 70 nm aufweist;wobei das Verfahren ferner die Abscheidung von mindestens einer Zwischenschicht (27, 27', 37, 37', 39, 39') umfasst;die Gold umfasst, wobei die Zwischenschicht zwischen einer silberhaltigen Schicht und einer Metalloxidschicht und/oder zwischen einer Metalloxidschicht und einer silberhaltigen Schicht angeordnet wird, um die Stabilität und Alterungsbeständigkeit der silberhaltigen Schicht zu erhöhen und um das Vermischen an der Schnittstelle der silberhaltigen Schicht und der Metalloxidschicht zu vermeiden.