EP1296901B1

Transparent textured substrate and methods for obtaining same

Abstract

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EP1296901B1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 5

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Expired 4 July 2021, 5.2 years ago.

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28 claims: 12 independent, 16 dependent

  1. 1
    Substrat transparent susceptible d'être obtenu par gravure d'une couche, d'un verre, de silice (quartz) ou d'un substrat polymère, par un plasma réactif à travers un masque en un matériau et de dimensions adaptés, de manière à y former des excroissances, ledit substrat étant caractérisé en ce qu' une partie au moins de sa surface extérieure présente la géométrie d'une nappe comportant des excroissances ayant, pour 80% au moins d'entre elles, des hauteurs comprises entre 40 et 250 nm, des diamètres moyens compris entre 1 et 500 nm, 80% au moins des distances entre deux excroissances voisines étant comprises entre 1 et 500 nm, 80% au moins des excroissances constituant sensiblement des cônes ou troncs de cônes droits d'axes perpendiculaires au plan principal du substrat et de demi-angles au sommet compris entre 0 et 60°.
  2. 2
    Substrat selon la revendication 1, caractérisé en ce que 80% au moins des excroissances ont des hauteurs au moins égales à 60 nm, en particulier au moins égales à 80 nm.
  3. 3
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que 80% au moins des excroissances ont des hauteurs au plus égales à 190 nm, en particulier au plus égales à 170 nm.
  4. 4
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu' au moins 80% des excroissances constituent sensiblement des cônes ou troncs de cônes droits d'axes perpendiculaires au plan principal du substrat et de demi-angles au sommet compris entre 0 et 30°.
  5. 5
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu' au moins 80% des excroissances ont des diamètres moyens de 40 à 380 nm.
  6. 6
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, dont la géométrie requise d'une partie au moins de la surface extérieure est donnée par une couche en un matériau contenant un ou plusieurs produits d'oxydation et/ou de nitruration, et/ou formée par une technique sous vide, notamment par pulvérisation cathodique assistée par champ magnétique, magnétron plasma, CVD plasma, CVD atmosphérique, pyrolyse de poudre et de liquide, par un procédé de polymérisation et/ou réticulation, par une technique du type sol-gel.
  7. 7
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu' il présente une transmission lumineuse au moins égale à 80%, en particulier au moins égale à 85%, tout particulièrement au moins égale à 90% et un voile au plus égal à 5%, en particulier au plus égal à 2% et tout particulièrement au plus égal à 1%.
  8. 8
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu' il est hydrophobe/oléophobe.
  9. 9
    Substrat selon la revendication 8, caractérisé en ce qu' à sa surface extérieure, il est constitué au moins en partie :a) de composés obtenus notamment par une technique sous vide, par évaporation, pulvérisation, sol-gel, CVD ou similaires ;b) de silicones ;et/ou c) de composés répondant aux formules : et         R p' SiX 4-p'      (II) dans lesquelles : - m = 0 à 15 ;- n = 1 à 5 ;- p = 0, 1 ou 2 ;- R est un groupe alkyle linéaire ou ramifié ou un atome d'hydrogène ;- X est un groupe hydrolysable tel qu'un groupe halogéno, alkoxy, acétoxy, acyloxy, amino, NCO ;- p' =0, 1, 2 ou 3.
  10. 10
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est hydrophile/oléophile.
  11. 11
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu' il présente des propriétés anti-salissure.
  12. 12
    Substrat selon l'une des revendications précédentes caractérisé en ce qu' il présente des propriétés anti-reflet.
  13. 13
    Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu' il est conducteur d'électricité.
  14. 14
    Procédé d'obtention d'un substrat selon l'une des revendications 1 à 13, comprenant la gravure d'une couche, d'un verre, de silice (quartz) ou d'un substrat polymère, par un plasma réactif à travers un masque en un matériau et de dimensions adaptés.
  15. 15
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit masque est en un matériau conducteur d'électricité, tel qu'un métal, notamment un métal noble du type Au, Ag, Pt, Pd, un alliage métallique, un oxyde conducteur tel qu'obtenu par dopage, notamment SnO 2 :F, SnO 2 :In et similaires, une céramique ou un polymère.
  16. 16
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit masque est utilisé en contact avec la couche à graver.
  17. 17
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit masque est utilisé sans contact avec la couche à graver.
  18. 18
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit masque est utilisé à l'état supporté par une feuille, notamment en matière plastique.
  19. 19
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que la couche à graver est stratifiée à une couche conductrice d'électricité sous-jacente, qui est polarisée avec un générateur de radiofréquences pendant la gravure.
  20. 20
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit substrat est placé sur un support conducteur d'électricité relié à un générateur de radiofréquences pendant la gravure
  21. 21
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que la couche à graver est elle-même conductrice d'électricité.
  22. 22
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que la couche à graver est feuilletée à une feuille de verre conducteur d'électricité .
  23. 23
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que la couche à graver est feuilletée à une feuille de verre munie sur sa face opposée d'une couche conductrice d'électricité.
  24. 24
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que sont utilisés l'un ou plusieurs des gaz plasmagènes CF 4 , C 3 F 2 , SF 6 , C 2 F 4 , CHF 3 .
  25. 25
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le masque est constitué de nodules comprenant l'un au moins des éléments Ag, Au, Pd, Pt, Cu, Al, Zn, Sn, Sb, Ti, Zr, W, Mb, Ta, Ir.
  26. 26
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce qu' il comprend une étape consistant à éliminer ou transformer en composés transparents la fraction dudit masque subsistant après avoir effectué la gravure.
  27. 27
    Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce qu' il comprend une étape consistant à former un revêtement sur le substrat après avoir effectué la gravure puis, le cas échéant, éliminé ou transformé la fraction dudit masque subsistant après avoir effectué la gravure.
  28. 28
    Vitrage comprenant un substrat selon l'une des revendications 1 à 13, pour véhicule de transport terrestre, maritime, aérien, pour le bâtiment, pour un élément décoratif d'intérieur ou d'extérieur, pour le mobilier urbain ou pour l'électroménager.
Independent claims28