EP0699433A2

Cosmetic or pharmaceutical composition containing chitosan derivatives

Abstract

New chitosan derivs. (I) comprise a random sequence of (a) N-acetyl-glucosamine units, (b) glucosamine units, (c) O-carboxymethyl-glucosamine or O-carboxymethyl-N-acetyl-glucosamine units of formula (II) and (d) O-carboxymethyl-N-alkyl-glucosamine units of formula (III) where the units of formula (II) are present in a 'major amount'. R1, R2 = H or CH2COOX; X = H or a monovalent cation; R3 = H or acetyl; R4 = 2-18C satd. or unsatd. alkyl. Also claimed is the prodn. of (I) by carboxymethylating chitosan and alkylating the prod. or by alkylating chitosan and carboxymethylating the prod. Also claimed are cosmetic or pharmaceutical compsns. contg. (I).

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5 claims: 2 independent, 3 dependent

  1. 1
    1/ Composition cosmétique ou pharmaceutique contenant de 0,1 à 5 % en poids d'un polymère dérivé du chitosane, constitué de plusieurs motifs monomères répartis au hasard dans la molécule du polymère, respectivement :A - un motif glucosamine N-acétylé ou N-alkylé avec R égal à -COCH₃ ou (CH₂) n - CH₃, B - un motif glucosamine caractérisée en ce que ledit polymère contient au moins deux autres motifs monomères, respectivement : C - en quantité majoritaire, un motif glucosamine-O-carboxyméthylé ou glucosamine N-acétylé O-carboxyméthylé de formule générale : et D - un motif glucosamine-O-carboxyméthylé N-alkylé de formule générale    dans laquelle : . R₁ et R₂ désignent l'atome d'hydrogène ou le radical -CH₂COOX, dans lequel X désigne H ou un cation monovalent ;. R₃ désigne H, un radical -COCH₃ ou le radical -CH2COOX dans lequel X désigne H ou un cation monovalent ;. et R₄ désigne un radical alkyl linéaire ou branché, saturé ou non, en C₂ à C₁₈.
  2. 2
    2/ Composition cosmétique ou pharmaceutique, selon la revendication 1, caractérisée en ce que dans le polymère dérivé du chitosane :. R₁ est -CH₂COONa . R₂ est H . R₃ est H . R₄ est le radical laurique.
  3. 3
    3/ Composition cosmétique selon la revendication 1, caractérisée en ce que dans le polymère dérivé du chitosane :- R₁ et R₂ est -CH₂COOX pour un pourcentage variant entre 10 et 100 %, avec X = H ou un cation monovalent ;- R₃ est au minimum de 50 % lorsque R3 est H et au maximum 20 % lorsque R₃ est un groupement acétyle ;- R₄ est un radical alkyle à un pourcentage inférieur à 50 %, et de préférence compris entre 6 et 8 % lorsque R₄ est le radical lauryle.
  4. 4
    4/ Composition cosmétique selon l'une des revendications 2 et 3, caractérisée en ce que :- R₁ et R₂ sont -CH₂COONa à raison de 25 à 65 % ;- R₃ est un radical acétyle pour un maximum de 10 % ;- R₄ est le radical lauryle pour un pourcentage compris entre 6 et 8 %.
  5. 5
    5/ Composition cosmétique selon la revendication 3, caractérisée en ce que R₁ et/ou R₂ et/ou R₃ est -CH₂COOX pour 50 % des monomères du polymère obtenu.