EP0442002A1

Radiation producing semiconductor device.

Abstract

Oberflächenemittierende Leuchtdiode, bei der ein erster Kontakt (5) schichtartig auf eine parallel zu der Ebene einer für Strahlungserzeugung vorgesehenen aktiven Schicht (3) und in ausreichender Nähe zu dieser aktiven Schicht (3) verlaufende Oberfläche aufgebracht ist und diese Oberfläche derart gitterartig strukturiert ist, daß im Betrieb des Bauelementes eine stark gerichtete Abstrahlung bewirkende Oberflächenplasmon polaritonen auf der freien Oberfläche des ersten Kontaktes (5) angeregt werden.

EP0442002A1, drawing sheet 1
Sheet 1 of 5

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11 claims: 1 independent, 10 dependent

  1. 1
    Strahlungserzeugendes Halbleiterbauelement - mit einer aktiven Schicht (3) zwischen einer ersten Confinementschicht (2) und einer zweiten Confinementschicht (4) und - mit mindestens einem ersten Kontakt (5) und einem zweiten Kontakt (7) zum Anlegen eines Betriebsstromes, dadurch gekennzeichnet, - daß die von der aktiven Schicht (3) abgewandte Oberfläche der zweiten Confinementschicht (4) mit einer räumlichen periodischen Strukturierung versehen ist, - daß zumindest auf den mit dieser Strukturierung versehenen Bereich der Oberfläche der zweiten Confinementschicht (4) ein semitransparenter Metallfilm aufgebracht ist und - daß die Höhe (h) dieser Strukturierung und die Länge (Lg) jeweils einer Periode dieser Strukturierung, die Dicke (d4) der zweiten Confinementschicht (4) und die Dicke (d5) des Metallfilms so bemessen sind, daß im Betrieb des Halbleiterbauelementes an der der zweiten Confinementschicht (4) abgewandten Oberfläche des Metallfilms Oberflächenplasmonpolaritonen durch in der aktiven Schicht (3) erzeugte Photonen angeregt werden.
  2. 2
    Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die räumliche periodische Strukturierung ein Gitter ist.
  3. 3
    Halbleiterbauelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gitter ein kantiges Profil hat.
  4. 4
    Halbleiterbauelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gitter ein gerundetes Profil hat.
  5. 5
    Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die räumliche periodische Strukturierung eine Periodizität in zwei voneinander verschiedenen Richtungen aufweist.
  6. 6
    Halbleiterbauelement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die räumliche periodische Strukturierung ein Kreuzgitter ist.
  7. 7
    Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Metallfilm zumindest in Teilbereichen mit einer Dielektrikumschicht (10) versehen ist und daß die Dicke dieser Dielektrikumschicht (10) so bemessen ist, daß im Betrieb des Halbleiterbauelementes Oberflächenplasmonpolaritonen in dieser Dielektrikumschicht (10) angeregt werden.
  8. 8
    Halbleiterbauelement nach einen der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Metallfilm durch den ersten Kontakt (5) gebildet wird.
  9. 9
    Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Metallfilm durch zumindest einen Anteil des ersten Kontakts (5) gebildet wird.
  10. 10
    Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die aktive Schicht (3) als Laserresonator mit Resonatorendflächen (8) ausgebildet ist.
  11. 11
    Halbleiterbauelement nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, - daß der erste Kontakt (5) als Streifenkontakt für den Laserresonator ausgebildet ist, - daß zumindest ein Anteil dieses ersten Kontaktes (5) als ein semitransparenter Metallfilm ausgebildet ist und - daß dieser semitransparente Metallfilm zumindest einen Teil der räumlichen periodischen Strukturierung bedeckt.
Independent claims11