DE112006001663T5

Semiconductor die package and method for making the same

Abstract

process comprising: providing a preformed substrate with a Leadframe structure and a molding material, wherein the leadframe structure a first conductive portion, a second conductive portion and an intermediate portion between the first conductive portion and the second conductive portion includes; separating the Intermediate portion to the first conductive portion of the second conductive portion electrically isolate; fix a semiconductor chip to said substrate; and electrically coupling the first and second conductive portions to the semiconductor chip.

DE112006001663T5, drawing sheet 1
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130 claims: 14 independent, 116 dependent

  1. 1
    Verfahren umfassend:Bereitstellen eines vorgeformten Substrats mit einer Leiterrahmenstruktur und einem Formmaterial, wobei die Leiterrahmenstruktur einen ersten leitenden Teilbereich, einen zweiten leitenden Teilbereich und einen Zwischen-Teilbereich zwischen dem ersten leitenden Teilbereich und dem zweiten leitenden Teilbereich beinhaltet;Trennen des Zwischen-Teilbereichs, um den ersten leitenden Teilbereich von dem zweiten leitenden Teilbereich elektrisch zu isolieren;Befestigen eines Halbleiterchips an dem Substrat;und elektrisches Koppeln der ersten und zweiten leitenden Teilbereiche zu dem Halbleiterchip.
  2. 2
    Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Zwischen-Teilbereich mittels eines Ätz-Prozesses geformt ist.
  3. 3
    Verfahren nach Anspruch 1, wobei Oberflächen der ersten und zweiten leitenden Teilbereiche im Wesentlichen planparallel mit einer äußeren Oberfläche des Formaterials sind.
  4. 4
    Verfahren nach Anspruch 1, wobei elektrisches Koppeln des ersten leitenden Teilbereichs und des zweiten leitenden Teilbereichs zu dem Halbleiterchip umfasst Verbinden des ersten leitenden Teilbereichs zu dem Halbleiterchip über Drähte und Verbinden des zweiten leitenden Teilbereichs zu dem Halbleiterchip über Drähte.
  5. 5
    Verfahren nach Anspruch 1, wobei Trennen die Verwendung einer Säge, eines Lasers oder eines Wasserstrahls umfasst, um den Zwischen-Teilbereich zu trennen.
  6. 6
    Verfahren nach Anspruch 1, weiter umfassend, nach Befestigen des Chips an dem Halbleitersubstrat, Einkapseln des Halbleiterchips mittels eines Einkapsel-Materials, wobei das Einkapsel-Material ein Gebiet zwischen dem ersten leitenden Teilbereich und dem zweiten leitenden Teilbereich füllt.
  7. 7
    Verfahren nach Anspruch 1, wobei sich das vorgeformte Substrat in einer Anordnung von vorgeformten Substraten befindet.
  8. 8
    Verfahren nach Anspruch 1, wobei die leitenden Teilbereiche sich nicht über das Formmaterial hinaus erstrecken.
  9. 9
    Verfahren nach Anspruch 1, wobei der befestigte Halbleiterchip zumindest einen Teilbereich des ersten leitenden Teilbereichs überlappt.
  10. 10
    Verfahren nach Anspruch 9, wobei die Leiterrahmenstruktur weiterhin einen leitenden Mittel-Teilbereich innerhalb eines durch eine Vielzahl von ersten leitenden Teilbereichen definierten Bereichs umfasst.
  11. 11
    Halbleiterchip-Gehäuse umfassend:ein vorgeformtes Substrat mit einer Leiterrahmenstruktur und einem Formmaterial, wobei die Leiterrahmenstruktur einen ersten leitenden Teilbereich, einen zweiten leitenden Teilbereich und eine Aussparung zwischen dem ersten leitenden Teilbereich und dem zweiten leitenden Teilbereich beinhaltet;einen Halbleiterchip auf dem vorgeformten Substrat;und ein Einkapsel-Material, das den Halbleiterchip abdeckt und die Aussparung zwischen dem ersten leitenden Teilbereich und dem zweiten leitenden Teilbereich füllt.
  12. 12
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei der Halbleiterchip einen Leistungs-MOSFET umfasst.
  13. 13
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei der Halbleiterchip ein vertikales Bauelement umfasst.
  14. 14
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei der Halbleiterchip eine erste Oberfläche fern von dem Substrat und eine zweite Oberfläche benachbart zu dem Substrat hat, wobei das Gehäuse weiterhin Drahtverbindungen beinhaltet, die die erste Oberfläche des Chips zu dem Substrat koppeln.
  15. 15
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei der Halbleiterchip sich direkt über einem isolierten Teilbereich des Substrats befindet.
  16. 16
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei das Halbleiterchip-Gehäuse keine Leiter aufweist, die sich seitlich weg von dem Einkapsel-Material erstrecken.
  17. 17
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei die Aussparung durch Trennen geformt wurde.
  18. 18
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei die Aussparung durch Trennen mittels einer Säge, eines Lasers oder eines Wasserstrahls geformt wurde.
  19. 19
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei der befestigte Halbleiterchip zumindest einen Teilbereich des ersten leitenden Teilbereichs überlappt.
  20. 20
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 11, wobei die Leiterrahmenstruktur weiterhin einen leitenden Mittel-Bereich innerhalb eines durch eine Vielzahl von ersten leitenden Teilbereichen definierten Gebiets umfasst.
  21. 21
    Verfahren umfassend:Bereitstellen eines vorgeformten Substrats mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, wobei das vorgeformte Substrat eine Leiterrahmenstruktur und ein Formmaterial beinhaltet, wobei die Leiterrahmenstruktur ein Feld-Gebiet umfasst, wobei eine äußere Oberfläche des Feld-Gebiets und eine äußere Oberfläche des Formmaterials im Wesentlichen planparallel sind und mit der zweiten Oberfläche des vorgeformten Substrats zusammenfallen;und Befestigen von zumindest zwei Halbleiterchips an der ersten Oberfläche des vorgeformten Substrats.
  22. 22
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei die Leiterrahmenstruktur eine Vielzahl von leitenden Gebieten beinhaltet, wobei die Vielzahl von leitenden Gebieten sich in Kantengebieten des Substrats befinden.
  23. 23
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei die zumindest zwei Halbleiterchips mittels Lot befestigt sind.
  24. 24
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei die zumindest zwei Halbleiterchips mittels eines Klebstoffs befestigt sind.
  25. 25
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei die Leiterrahmenstruktur einen Chip-Befestigungs-Gebiet beinhaltet, wobei das Chip-Befestigungs-Gebiet mit der ersten Oberfläche des Substrats zusammenfällt und sich zumindest einer der Chips auf dem Chip-Befestigungs-Gebiet befindet.
  26. 26
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer umfasst.
  27. 27
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei das Substrat keine Leiter aufweist, die sich seitlich über das Formmaterial hinaus erstrecken.
  28. 28
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei zumindest einer der Halbleiterchips ein vertikales Bauelement umfasst.
  29. 29
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei zumindest einer der Chips einen vertikalen MOSFET umfasst.
  30. 30
    Verfahren nach Anspruch 21, wobei die Leiterrahmenstruktur eine Vielzahl von leitenden Gebieten beinhaltet, wobei die Vielzahl von leitenden Gebieten Kantengebiete des Substrats sind, und wobei das Verfahren weiterhin Verbinden der Chips zu den leitenden Gebieten über Drähte umfasst.
  31. 31
    Halbleiterchip-Gehäuse umfassend:ein vorgeformtes Substrat mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, wobei das vorgeformte Substrat eine Leiterrahmenstruktur und ein Formmaterial beinhaltet, wobei die Leiterrahmenstruktur ein Feld-Gebiet umfasst, wobei eine äußere Oberfläche des Feld-Gebiets und eine äußere Oberfläche des Formmaterials im Wesentlichen planparallel sind und mit der zweiten Oberfläche des vorgeformten Substrats zusammenfallen;und zumindest zwei Halbleiterchips zu der ersten Oberfläche des vorgeformten Substrats gekoppelt sind.
  32. 32
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei die Leiterrahmenstruktur eine Vielzahl von leitenden Gebieten beinhaltet, wobei die Vielzahl von leitenden Gebieten Kantengebiete des Substrats sind.
  33. 33
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei die zumindest zwei Halbleiterchips mittels Lot befestigt sind.
  34. 34
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei die zumindest zwei Halbleiterchips mittels eines Klebstoffs befestigt sind.
  35. 35
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei die Leiterrahmenstruktur ein Chip-Befestigungs-Gebiet beinhaltet, wobei das Chip-Befestigungs-Gebiet mit der ersten Oberfläche des Substrats zusammenfällt und sich zumindest einer der Chips auf dem Chip-Befestigungs-Gebiet befindet.
  36. 36
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer umfasst.
  37. 37
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei das Substrat keine Leiter aufweist, die sich seitlich über das Formmaterial hinaus erstrecken.
  38. 38
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei zumindest einer der Halbleiterchips ein vertikales Bauelement umfasst.
  39. 39
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei zumindest einer der Chips einen vertikalen MOSFET umfasst.
  40. 40
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 31, wobei die Leiterrahmenstruktur eine Vielzahl von leitenden Gebieten beinhaltet, wobei die Vielzahl von leitenden Gebieten Kantengebiete des Substrats sind, und wobei das Verfahren weiterhin Verbinden der Chips zu den leitenden Gebieten über Drähte umfasst.
  41. 41
    Verfahren zum Formen eines Halbleiterchip-Gehäuses, umfassend:Formen eines Substrats, wobei Formen eines Substrats umfasst (i) Platzieren einer Leiterrahmenstruktur zwischen einer ersten Ausformform und einer zweiten Ausformform, (ii) Kontaktieren der Leiterrahmenstruktur mit den ersten und zweiten Ausformformen, und (iii) Formen eines Formmaterials um die Leiterrahmenstruktur;Befestigen eines Halbleiterchips an dem Substrat;und Einkapseln des Halbleiterchips in einem Einkapsel-Material.
  42. 42
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei der Halbleiterchip an dem Substrat mittels eines Klebstoffs befestigt ist.
  43. 43
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei der Halbleiterchip einen Leistungs-MOSFET umfasst.
  44. 44
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei das geformte Substrat zwei konkave Strukturen auf gegenüberliegenden Seiten des Substrats beinhaltet.
  45. 45
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei das Formmaterial eine Dicke aufweist, die gleich einer Dicke der Leiterrahmenstruktur ist.
  46. 46
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei das geformte Substrat eine konkave Struktur auf einer Seite des Substrats beinhaltet.
  47. 47
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei sich die Leiterrahmenstruktur in einer Anordnung von Leiterrahmenstrukturen befindet, und wobei das Verfahren nach Einkapseln weiterhin umfasst:Trennen der Leiterrahmenstrukturen in der Anordnung, um einzelne Chipgehäuse zu formen.
  48. 48
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer umfasst.
  49. 49
    Verfahren nach Anspruch 41, weiterhin umfassend Formen von Drahtverbindungen, die den Halbleiterchip zu Leitern in der Leiterrahmenstruktur verbinden.
  50. 50
    Verfahren nach Anspruch 41, wobei ein Halbleiterchip-Gehäuse, das nach Einkapseln geformt ist, keine Leiter aufweist, die sich über das Einkapsel-Material hinaus erstrecken.
  51. 51
    Halbleiterchip-Gehäuse, umfassend:ein Substrat, wobei Formen eines Substrats eine Leiterrahmenstruktur und ein Formmaterial umfasst, wobei das Substrat zumindest eine konkave Struktur formt;und einen Halbleiterchip auf dem Substrat.
  52. 52
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, weiterhin umfassend ein Einkapsel-Material über dem Halbleiterchip.
  53. 53
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, weiterhin umfassend Drahtverbindungen, die zwischen dem Halbleiterchip und der Leiterrahmenstruktur in dem Substrat geformt sind.
  54. 54
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, wobei das Substrat zwei konkave Strukturen aufweist, die sich auf gegenüberliegenden Seiten des Substrats befinden.
  55. 55
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, wobei die konkave Struktur durch erhöhte Wände des Formmaterials und eine Oberfläche der Leiterrahmenstruktur geformt ist.
  56. 56
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, wobei der Halbleiterchip einen Leistungs-Transistor umfasst.
  57. 57
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, wobei der Halbleiterchip einen Leistungs-MOSFET umfasst.
  58. 58
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer umfasst.
  59. 59
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, wobei der Halbleiterchip ein erster Halbleiterchip ist und wobei das Halbleiterchip-Gehäuse weiterhin einen zweiten Halbleiterchip auf dem Substrat umfasst.
  60. 60
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 51, weiterhin umfassend ein Einkapsel-Material auf dem Halbleiterchip, und wobei Leiter der Leiterrahmenstruktur sich nicht über das Einkapsel-Material hinaus erstrecken.
  61. 61
    Verfahren, umfassend:Bereitstellen eines Substrats beinhaltend eine Leiterrahmenstruktur und ein Formmaterial, wobei eine Oberfläche des Formmaterials und die Leiterrahmenstruktur im Wesentlichen planparallel sind, und wobei das Substrat ein erstes Chip-Befestigungs-Gebiet und ein zweites Chip-Befestigungs-Gebiet beinhaltet;Befestigen eines ersten Halbleiterchips an dem ersten Chip-Befestigungs-Gebiet;und Befestigen eines zweiten Halbleiterchips an dem zweiten Chip-Befestigungs-Gebiet.
  62. 62
    Verfahren nach Anspruch 61, wobei der erste Halbleiterchip einen Treiber-IC umfasst und wobei der zweite Halbleiterchip einen Leistungs-Transistor beinhaltet.
  63. 63
    Verfahren nach Anspruch 61, wobei das Verfahren weiterhin umfasst Befestigen eines dritten Halbleiterchips an dem Substrat.
  64. 64
    Verfahren nach Anspruch 61, wobei das Verfahren umfasst Einkapseln der ersten und zweiten Halbleiterchips mittels eines Einkapsel-Materials.
  65. 65
    Verfahren nach Anspruch 61, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer beinhaltet.
  66. 66
    Verfahren nach Anspruch 61, weiterhin umfassend Formen des Substrats, wobei Formen des Substrats teilweises Ätzen der Leiterrahmenstruktur und dann Formen des Formmaterials um die Leiterrahmenstruktur, so dass eine nicht-geätzte Oberfläche im Wesentlichen planparallel mit einer äußeren Oberfläche des geformten Formmaterials ist, beinhaltet.
  67. 67
    Verfahren nach Anspruch 61, weiterhin umfassend Formen des Substrats, wobei Formen des Substrats teilweises Ätzen der Leiterrahmenstruktur;Abdecken der nicht-geätzten Oberfläche der Leiterrahmenstruktur mit Band;und dann Formen des Formmaterials um die Leiterrahmenstruktur, so dass eine nicht-geätzte Oberfläche im Wesentlichen planparallel mit einer äußeren Oberfläche des geformten Formmaterials ist, beinhaltet.
  68. 68
    Verfahren nach Anspruch 61, wobei zumindest einer der Chips ein vertikales Bauelement umfasst.
  69. 69
    Verfahren nach Anspruch 61, wobei zumindest einer der Chips einen Leistungs-MOSFET umfasst.
  70. 70
    Verfahren nach Anspruch 61, wobei die Leiterrahmenstruktur eine Vielzahl von Leitern beinhaltet, die sich seitlich über eine seitliche äußere Oberfläche des Formmaterials in dem Substrat erstrecken.
  71. 71
    Halbleiterchip-Gehäuse, umfassend:ein Substrat beinhaltend eine Leiterrahmenstruktur und ein Formmaterial, wobei eine Oberfläche des Formmaterials und die Leiterrahmenstruktur im Wesentlichen planparallel sind, und wobei das Substrat ein erstes Chip-Befestigungs-Gebiet und ein zweites Chip-Befestigungs-Gebiet umfasst;einen ersten Halbleiterchip auf dem ersten Chip-Befestigungs-Gebiet;und einen zweiten Halbleiterchip auf dem zweiten Chip-Befestigungs-Gebiet.
  72. 72
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, wobei der erste Halbleiterchip einen Treiber-IC umfasst und wobei der zweite Halbleiterchip einen Leistungs-Transistor beinhaltet.
  73. 73
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, weiterhin umfassend einen dritten, an dem Substrat befestigten Halbleiterchip.
  74. 74
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, weiterhin umfassend ein Einkapsel-Material, das die ersten und zweiten Halbleiterchips einkapselt.
  75. 75
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer beinhaltet.
  76. 76
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, wobei das Substrat eine teilweise geätzte Struktur beinhaltet und wobei das Formmaterial so um die Leiterrahmenstruktur angeordnet ist, dass eine nicht-geätzte Oberfläche im Wesentlichen planparallel mit einer äußeren Oberfläche des geformten Formmaterials ist.
  77. 77
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, wobei das Substrat eine teilweise geätzte Struktur beinhaltet und wobei das Formmaterial so um die Leiterrahmenstruktur angeordnet ist, dass eine nicht-geätzte Oberfläche im Wesentlichen planparallel mit einer äußeren Oberfläche des geformten Formmaterials ist, und wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer beinhaltet.
  78. 78
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, wobei zumindest einer der Chips ein vertikales Bauelement umfasst.
  79. 79
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, wobei zumindest einer der Chips einen Leistungs-MOSFET umfasst.
  80. 80
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 71, wobei die Leiterrahmenstruktur eine Vielzahl von Leitern beinhaltet, die sich seitlich über eine seitliche äußere Oberfläche des Formmaterials in dem Substrat erstrecken.
  81. 81
    Verfahren zur Herstellung eines Substrats für ein Halbleiterchip-Gehäuse, das Verfahren umfassend:Bereitstellen einer ersten Leiterrahmenstruktur und einer zweiten Leiterrahmenstruktur;Befestigen der ersten und zweiten Leiterrahmenstruktur aneinander mittels einer Klebeschicht;und Aufbringen des Formmaterials auf die erste Leiterrahmenstruktur, die zweite Leiterrahmenstruktur, oder die Klebeschicht.
  82. 82
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei Aufbringen des Formmaterials auf die erste Leiterrahmenstruktur, die zweite Leiterrahmenstruktur, und die Klebeschicht Aufbringen des Formmaterials auf die erste Leiterrahmenstruktur, die zweite Leiterrahmenstruktur, und die Klebeschicht umfasst.
  83. 83
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei die erste Leiterrahmenstruktur teilweise geätzt ist und die zweite Leiterrahmenstruktur teilweise geätzt ist.
  84. 84
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei die Klebeschicht in Form eines Polymer-Films bereitgestellt ist.
  85. 85
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei die Klebeschicht in Form eines Polyimid-Films bereitgestellt ist.
  86. 86
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei die erste Leiterrahmenstruktur und die zweite Leiterrahmenstruktur symmetrisch auf gegenüberliegenden Seiten der Klebeschicht angeordnet sind.
  87. 87
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei die ersten und zweiten Leiterrahmenstrukturen Aussparungen beinhalten, und wobei die Aussparungen in den ersten und zweiten Leiterrahmenstrukturen mit dem Formmaterial gefüllt sind, und wo Kanten des ersten und zweiten Leiterrahmens mit dem Formmaterial überzogen sind.
  88. 88
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei das Formmaterial in dem Substrat eine äußere Oberfläche hat, die im Wesentlichen planparallel mit einer äußeren Oberfläche der ersten Leiterrahmenstruktur oder der zweiten Leiterrahmenstruktur ist.
  89. 89
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei das Formmaterial in dem Substrat äußere Oberflächen hat, welche im Wesentlichen planparallel mit äußeren Oberflächen der ersten Leiterrahmenstruktur und der zweiten Leiterrahmenstruktur sind.
  90. 90
    Verfahren nach Anspruch 81, wobei die ersten und zweiten Leiterrahmenstrukturen Kupfer umfassen.
  91. 91
    Substrat für ein Halbleiterchip-Gehäuse, das Substrat umfassend:eine erste Leiterrahmenstruktur;eine zweite Leiterrahmenstruktur;und eine Klebeschicht, die die ersten und zweiten Leiterrahmenstrukturen aneinander klebt;und ein Formmaterial auf der ersten Leiterrahmenstruktur, der zweiten Leiterrahmenstruktur, oder der Klebeschicht.
  92. 92
    Substrat nach Anspruch 91, wobei das Formmaterial sich auf der ersten Leiterrahmenstruktur, der zweiten Leiterrahmenstruktur, und der Klebeschicht befindet.
  93. 93
    Substrat nach Anspruch 91, wobei die erste Leiterrahmenstruktur teilweise geätzt ist und die zweite Leiterrahmenstruktur teilweise geätzt ist.
  94. 94
    Substrat nach Anspruch 91, wobei die Klebeschicht in Form eines Polymer-Films bereitgestellt ist.
  95. 95
    Substrat nach Anspruch 91, wobei die ersten und zweiten Leiterrahmenstrukturen Kupfer umfassen.
  96. 96
    Substrat nach Anspruch 91, wobei die Klebeschicht in Form eines Polyimid-Films bereitgestellt ist.
  97. 97
    Substrat nach Anspruch 91, wobei das Formmaterial in dem Substrat eine äußere Oberfläche hat, die im Wesentlichen planparallel mit einer äußeren Oberfläche der ersten Leiterrahmenstruktur oder der zweiten Leiterrahmenstruktur ist.
  98. 98
    Substrat nach Anspruch 91, wobei die ersten und zweiten Leiterrahmenstrukturen Aussparungen beinhalten, und wobei die Aussparungen in den ersten und zweiten Leiterrahmenstrukturen mit dem Formmaterial gefüllt sind, und wo Kanten des ersten und zweiten Leiterrahmens mit dem Formmaterial überzogen sind.
  99. 99
    Substrat nach Anspruch 91, wobei das Formmaterial in dem Substrat äußere Oberflächen hat, welche im Wesentlichen planparallel mit äußeren Oberflächen der ersten Leiterrahmenstruktur und der zweiten Leiterrahmenstruktur sind.
  100. 100
    Substrat nach Anspruch 91, wobei die erste Leiterrahmenstruktur und die zweite Leiterrahmenstruktur im Wesentlichen symmetrisch an gegenüberliegenden Seiten der Klebeschicht angeordnet sind.
  101. 101
    Verfahren zum Formen eines Halbleiterchip-Gehäuses, umfassend:Bereitstellen eines vorgeformten Substrats umfassend eine Leiterrahmenstruktur und ein Formmaterial, wobei eine äußere Oberfläche der Leiterrahmenstruktur und eine äußere Oberfläche des Formmaterials im Wesentlichen planparallel sind;Befestigen des Substrats an einer Rahmenstruktur, die Leiter beinhaltet;und Befestigen eines Chips an dem Substrat.
  102. 102
    Verfahren nach Anspruch 101, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer umfasst.
  103. 103
    Verfahren nach Anspruch 101, weiterhin umfassend Formen eines Formmaterials um das befestigte Substrat, und Trennen der Leiter von der Rahmenstruktur.
  104. 104
    Verfahren nach Anspruch 101, weiterhin umfassend Befestigen einer Vielzahl von Chips an dem Substrat vor oder nach Befestigen des Substrats an der Rahmenstruktur.
  105. 105
    Verfahren nach Anspruch 101, wobei, nachdem das Substrat an der Rahmenstruktur befestigt ist, das Substrat in Bezug auf einen wesentlichen Teilbereich der Rahmenstruktur abgesenkt wird.
  106. 106
    Halbleiterchip-Gehäuse, umfassend:ein vorgeformtes Substrat umfassend eine Leiterrahmenstruktur und ein Formmaterial, wobei eine äußere Oberfläche der Leiterrahmenstruktur und eine äußere Oberfläche des Formmaterials im Wesentlichen planparallel sind;und einen Halbleiterchip auf dem vorgeformten Substrat;an dem vorgeformten Substrat befestigte Leiter, wobei die Leiter einzeln aus dem vorgeformten Substrat geformt wurden.
  107. 107
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 106, wobei die Leiterrahmenstruktur Kupfer umfasst.
  108. 108
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 106, wobei das Formmaterial gegenüberliegende Oberflächen hat, die im Wesentlichen planparallel sind mit gegenüberliegenden Oberflächen der Leiterrahmenstruktur.
  109. 109
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 106, wobei die Leiter an dem vorgeformten Substrat durch Lot oder Schweißungen befestigt sind.
  110. 110
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 106, wobei der Halbleiterchip ein vertikales Bauelement umfasst.
  111. 111
    Verfahren umfassend:Bereitstellen eines Substrats umfassend eine leitende Chip-Befestigungs-Oberfläche;Befestigen eines hochseitigen Transistors beinhaltend einen hochseitigen Transistor-Eingang an dem Substrat, wobei der hochseitige Transistor-Eingang zu der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche gekoppelt ist;und Befestigen eines niedrigseitigen Transistors beinhaltend einen niedrigseitigen Transistor-Ausgang an dem Substrat, wobei der niedrigseitige Transistor-Eingang zu der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche gekoppelt ist.
  112. 112
    Verfahren nach Anspruch 111, weiterhin umfassend:Formen eines Einkapsel-Materials, das um den hochseitigen Transistor und den niedrigseitigen Transistor geformt ist.
  113. 113
    Verfahren nach Anspruch 111, wobei der hochseitige Transistor ein hochseitiger MOSFET ist und der hochseitige Transistor-Eingang eine hochseitige Transistor-Source-Verbindung ist.
  114. 114
    Verfahren nach Anspruch 111, wobei der niedrigseitige Transistor ein niedrigseitiger MOSFET ist und der niedrigseitige Transistor-Ausgang eine niedrigseitige Transistor-Drain-Verbindung ist.
  115. 115
    Verfahren nach Anspruch 111, wobei der hochseitige Transistor sich in einem ersten Chip befindet und der niedrigseitige Transistor sich in einem zweiten Chip befindet.
  116. 116
    Verfahren nach Anspruch 111, weiterhin umfassend Montieren eines auf dem Substrat montierten Controller-Chips.
  117. 117
    Verfahren nach Anspruch 111, wobei das Substrat ein Formmaterial umfasst, das eine äußere Oberfläche hat, die im Wesentlichen planparallel mit der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist.
  118. 118
    Verfahren nach Anspruch 111, wobei die leitende Chip-Befestigungs-Oberfläche Teil eines Leiterrahmens ist.
  119. 119
    Verfahren nach Anspruch 111, wobei der hochseitige Transistor einen hochseitigen Transistor-Ausgang hat, wobei der hochseitige Transistor-Ausgang fern von der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist und der hochseitige Transistor-Eingang benachbart zu der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist und wobei das Gehäuse weiterhin eine Klemme oder eine Drahtverbindung umfasst, die den hochseitigen Transistor-Ausgang zu den außen liegenden Leitern koppelt, und wobei die hoch- und niedrigseitigen Transistoren beide Leistungs-MOSFETs sind.
  120. 120
    Verfahren nach Anspruch 111, weiterhin umfassend Befestigen eines Controller-Chips an dem Substrat und wobei die leitende Chip-Befestigungs-Oberfläche Teil einer Leiterrahmenstruktur ist.
  121. 121
    Halbleiterbauelement-Gehäuse, umfassend:ein Substrat umfassend eine leitende Chip-Befestigungs-Oberfläche;einen hochseitigen Transistor umfassend einen hochseitigen Transistor-Eingang, wobei der hochseitige Transistor-Eingang zu der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche gekoppelt ist;und einen niedrigseitigen Transistor beinhaltend einen niedrigseitigen Transistor-Ausgang, wobei der niedrigseitige Transistor-Eingang zu der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche gekoppelt ist.
  122. 122
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, weiterhin umfassend:ein Einkapsel-Material, das um den hochseitigen Transistor und den niedrigseitigen Transistor geformt ist.
  123. 123
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, wobei der hochseitige Transistor ein hochseitiger MOSFET ist und der hochseitige Transistor-Eingang eine hochseitige Transistor-Source-Verbindung ist.
  124. 124
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, wobei der niedrigseitige Transistor ein niedrigseitiger MOSFET und der niedrigseitige Transistor-Ausgang eine niedrigseitige Transistor-Drain-Verbindung ist.
  125. 125
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, wobei der hochseitige Transistor ein hochseitiger MOSFET ist und der niedrigseitige Transistor ein niedrigseitiger MOSFET ist und der niedrigseitige Transistor-Ausgang eine niedrigseitige Transistor-Drain-Verbindung ist.
  126. 126
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, weiterhin umfassend einen auf dem Substrat montierten Controller-Chip.
  127. 127
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, wobei die leitende Chip-Befestigungs-Oberfläche Teil eines Leiterrahmens ist.
  128. 128
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, wobei das Substrat ein Formmaterial umfasst, das eine äußere Oberfläche hat, die im Wesentlichen planparallel mit der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist.
  129. 129
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, wobei der hochseitige Transistor einen hochseitigen Transistor-Ausgang hat, wobei der hochseitige Transistor-Ausgang fern von der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist und der hochseitige Transistor-Eingang benachbart zu der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist und wobei das Gehäuse weiterhin eine Klemme oder eine Drahtverbindung umfasst, die den hochseitigen Transistor-Ausgang zu außen liegenden Leitern koppelt.
  130. 130
    Halbleiterchip-Gehäuse nach Anspruch 121, wobei der hochseitige Transistor einen hochseitigen Transistor-Ausgang hat, wobei der hochseitige Transistor-Ausgang fern von der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist und der hochseitige Transistor-Eingang benachbart zu der leitenden Chip-Befestigungs-Oberfläche ist und wobei das Gehäuse weiterhin eine Klemme oder eine Drahtverbindung umfasst, die den hochseitigen Transistor-Ausgang zu außen liegenden Leitern koppelt, und wobei die hoch- und niedrigseitigen Transistoren beide Leistungs-MOSFETs sind.
Independent claims130