CN120015744A

Multiple edge through silicon vias and related systems, methods, and devices

Abstract

The present application discloses a plurality of edge through silicon vias (TSVs) and related systems, methods and devices. An electronic device includes a chip stack, a first TSV and a second TSV. The chip stack includes one or more side edges at the perimeter of the chip stack. The TSV region of the chip stack is located within a predetermined distance from the one or more side edges. The first TSV is located within the TSV region of the chip stack at a first distance from the one or more side edges. The second TSV is located within the TSV region of the chip stack at a second distance from the one or more side edges. The second distance is shorter than the first distance.

CN120015744A, drawing sheet 1
Sheet 1 of 12

Term

13.9 yearsto projected expiry

Projected expiry 3 August 2040, counted from filing; an application has no term until it is granted.

  1. Priority
  2. Filed
  3. Published
  4. Today
  5. Projected expiry

20 claims: 3 independent, 17 dependent

  1. 1
    一种设备,其包括: 芯片堆叠的一或多个硅穿孔TSV,所述TSV位于距芯片堆叠的一或多个侧边缘的不同距离处;以及控制电路系统,其被配置成: 对所述一或多个TSV执行导电性测试;并且响应于所述导电性测试而标识距所述一或多个侧边缘的最小可接受TSV距离。
  2. 2
    根据权利要求1所述的设备,其中所述一或多个TSV是二或多个TSV的形式,并且其中所述控制电路系统被配置成: 响应于确定以下而将距所述一或多个侧边缘的所述最小可接受TSV距离标识为距所述一或多个侧边缘的第一距离:所述二或多个TSV中的第一TSV通过所述导电性测试,所述二或多个TSV中的第二TSV未通过所述导电性测试,并且没有比所述第一TSV距所述一或多个侧边缘更远的所述二或多个TSV中的其它TSV未通过所述导电性测试。
  3. 3
    根据权利要求1或2所述的设备,其中所述控制电路系统位于所述芯片堆叠中的控制芯片上或中,所述控制芯片包含存储器装置的逻辑管芯。
  4. 4
    根据权利要求1或2所述的设备,其中所述控制电路系统被配置成: 将所述一或多个TSV中的至少一个TSV的第一端预充电到第一测试电压电位; 将与所述第一端相对的所述至少一个TSV的第二端放电到第二测试电压电位;并且在所述至少一个TSV的所述第一端处检测电压电位。
  5. 5
    根据权利要求4所述的设备,其中所述控制电路系统被配置成: 响应于对所述至少一个TSV的所述第一端处的所述第二测试电压电位的检测而确定所述至少一个TSV通过所述导电性测试;并且响应于对所述至少一个TSV的所述第一端处的所述第一测试电压电位的检测而确定所述至少一个TSV未通过所述导电性测试。
  6. 6
    根据权利要求3所述的设备,其中所述控制芯片包括多路复用器,所述多路复用器被配置成向所述控制电路系统递送所述导电性测试的结果。
  7. 7
    根据权利要求1或2所述的设备,其中: 所述控制电路系统定位于所述第一TSV的第一端处; 其中所述控制电路系统包含第一电可控开关,所述第一电可控开关被配置成接近所述第一TSV的所述第一端将所述第一TSV选择性地可操作地耦接到第一测试电压电位;并且所述芯片堆叠包含端芯片,所述端芯片定位于所述第一TSV的与所述第一端相对的第二端处。
  8. 8
    根据权利要求7所述的设备,其中,所述端芯片包含第二电可控开关,所述第二电可控开关被配置成接近所述第二端将所述第一TSV选择性地可操作地耦接到第二测试电压电位,所述第二测试电压电位不同于所述第一测试电压电位。
  9. 9
    根据权利要求8所述的设备,其中所述控制电路系统被配置成: 控制所述第一电可控开关以将所述第一TSV可操作地耦接到所述第一测试电压电位, 直到将所述第一TSV的所述第一端充电到所述第一测试电压电位;以及控制所述端芯片的所述第二电可控开关以将所述第一TSV可操作地耦接到所述第二测试电压电位,直到所述第一TSV的所述第二端放电到所述第二测试电压电位。
  10. 10
    根据权利要求9所述的设备,其中所述控制电路系统被配置成: 响应于确定所述第一TSV的所述第一端位于所述第二测试电压电位处而确定所述第一 TSV通过所述导电性测试;并且响应于确定所述第一TSV的所述第一端位于所述第一测试电压电位处而确定所述第一 TSV未通过所述导电性测试。
  11. 11
    一种确定距芯片堆叠的一或多个侧边缘的最小可接受硅穿孔距离(最小可接受TSV 距离)的方法,所述方法包括: 对一或多个TSV执行导电性测试;以及响应于所述导电性测试而确定距所述一或多个侧边缘的最小可接受TSV距离。
  12. 12
    根据权利要求11所述的方法,其中对所述一或多个TSV执行所述导电性测试包括: 对定位于距所述芯片堆叠的所述一或多个侧边缘的第一距离的第一TSV执行导电性测试;以及对定位于距所述一或多个侧边缘的第二距离的第二TSV执行所述导电性测试,所述第二距离比所述第一距离短。
  13. 13
    根据权利要求12所述的方法,其中确定所述最小可接受TSV距离包含: 响应于确定以下而将距所述一或多个侧边缘的所述最小可接受TSV距离确定为所述第一距离:所述第一TSV通过所述导电性测试,所述第二TSV未通过所述导电性测试,并且没有比所述第一TSV距所述一或多个侧边缘更远的所述一或多个TSV中的其它TSV未通过所述导电性测试。
  14. 14
    根据权利要求13所述的方法,其中对所述一或多个TSV执行所述导电性测试包含: 将所述一或多个TSV中的TSV的第一端预充电到第一测试电压电位; 将所述TSV的与所述第一端相对的第二端放电到第二测试电压电位; 检测所述TSV的所述第一端处的电压电位; 响应于在所述TSV的所述第一端处检测到所述第二测试电压电位而确定所述TSV通过所述导电性测试;以及响应于在所述TSV的所述第一端处检测到所述第一测试电压电位而确定所述TSV未通过所述导电性测试。
  15. 15
    根据权利要求14所述的方法,其中将所述TSV的所述第一端预充电到所述第一测试电压电位包括激活可操作地耦接在所述TSV的所述第一端与所述第一测试电压电位之间的开关,直到将所述TSV的所述第一端充电到所述第一测试电压电位。
  16. 16
    根据权利要求14或15所述的方法,其中将所述TSV的所述第二端放电到所述第二测试电压电位包括激活可操作地耦接在所述TSV的所述第二端与所述第二测试电压电位之间的开关,直到将所述TSV的所述第二端放电到所述第二测试电压电位。
  17. 17
    一种存储器装置,其包括: 芯片堆叠,所述芯片堆叠包含逻辑管芯和堆叠在所述逻辑管芯上的核心管芯; 硅穿孔TSV,所述TSV位于距所述芯片堆叠的一或多个侧边缘的不同距离处; 控制电路系统,所述控制电路系统位于所述逻辑管芯上或中,所述控制电路系统被配置成: 对所述TSV中的每一者执行导电性测试;并且 确定距所述一或多个侧边缘的最小可接受TSV距离与从所标识的TSV到所述一或多个侧边缘的距离相同。
  18. 18
    根据权利要求17所述的存储器装置,其中有序序列与从距所述一或多个侧边缘最远的TSV到距所述一或多个侧边缘最近的TSV的所述TSV相关联,并且其中所述控制电路系统被配置成: 标识所述TSV中的在所述有序序列中没有前述TSV未通过所述导电性测试的情况下作为所述有序序列中通过所述导电性测试的最后一个连续TSV的TSV。
  19. 19
    根据权利要求17或18所述的存储器装置,其中: 所述TSV定位于所述一或多个侧边缘中的第一侧边缘处;并且所述存储器装置进一步包括在所述一或多个侧边缘中的第二侧边缘处的其它TSV,所述第二侧边缘不同于所述第一侧边缘。
  20. 20
    根据权利要求19所述的存储器装置,其中所述控制电路系统被配置成独立于确定与所述TSV相对应的所述最小可接受TSV距离而确定与所述其它TSV相对应的另一个最小可接受TSV距离。
Independent claims20