AT411305B

Post-treatment method for photovoltaic cell using thermal treatment at temperature above glass transition temperature of electron donor

Abstract

The post-treatment method has a photovoltaic cell with a photoactive layer having electron donor and electron acceptor molecular components between opposing metallic electrodes subjected to a thermal treatment at a temperature above the glass transition temperature of the electron donor, maintained for a defined treatment period. The thermal treatment is effected using an applied electrical field, at least over part of the treatment period, obtained via a field voltage across the photovoltaic cell electrodes which is above the no-load voltage of the photovoltaic cell.

AT411305B, drawing sheet 1
Sheet 1 of 4

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Expired 22 May 2022, 4.3 years ago.

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4 claims: 1 independent, 3 dependent

  1. 1
    Verfahren zur Nachbehandlung einer photovoltaischen Zelle mit einer photoaktiven Schicht aus zwei molekularen Komponenten, nämlich einem Elektronendonator und einem Elektronenakzeptor, insbesondere einer konjugierten Polymerkomponente und einer Fullerenkomponente, und mit zwei beidseits der photoaktiven Schicht vorgesehenen, metallischen Elektroden, wobei die photovoltaische Zelle einer Wärmebehandlung über der Glasumwandlungstemperatur des Elektronendonators während einer vorgegebenen Behandlungszeitspanne unterworfen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmebehandlung der photovoltaischen Zelle zumindest während eines Abschnittes der Behandlungszeitspanne unter dem Einfluß eines elektrischen Feldes durchgeführt wird, das durch eine an die Elektroden der photovoltaischen Zelle angelegte, deren Leerlaufspannung übersteigende Erregerspannung erregt wird.
  2. 2
    Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Feld mit einer AT 41 1 305 B die Leerlaufspannung der photovoltaischen Zelle um wenigstens 1V übersteigende Erregerspannung erregt wird.
  3. 3
    Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Erregerspannung zwischen 2,5 und 3V gewählt wird.
  4. 4
    Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die photovoltaische Zelle während einer Behandlungszeitspanne zwischen 2 und 8 min, vorzugsweise zwischen 4 und 5 min, einer Wärmebehandlung unter Einfluß eines elektrischen Feldes ausgesetzt wird.